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J-GLOBAL ID：200903049907018010

基板処理装置および基板処理システム

Inventor： 志賀 正佳 ,  枦木 憲二 ,  大谷 正美 ,  西村 讓一
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001222722
Publication number (International publication number)：2003037043
Application date： Jul. 24, 2001
Publication date： Feb. 07, 2003
Summary：

【要約】【課題】 効率良く基板の検査を行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置内には検査ユニット20が設けられている。検査ユニット20は基板Wに対して光学的な測定を行って、その結果としての検査データを得る。検査ユニット20が基板Wの測定を行った結果の検査データは制御部50に送信される。検査データを取得した制御部50のCPU51は、該検査データに基づいて基板Wが不良であるか否かの良否判定を行う。基板処理装置に複数の検査ユニットを設けるような場合は、各検査ユニットから得られた検査データを制御部50のCPU51で集中処理して良否判定を行うこととなるため、各検査ユニット単位での検査機能が不要となり、基板処理装置全体としての検査効率が著しく向上する。

Claim (excerpt)：

基板に所定の処理を行う処理部を備えた基板処理装置であって、基板に対して所定の検査を行う検査部と、前記検査部とは別体に設けられ、前記検査部が基板の測定を行った結果の検査データを取得し、その検査データに基づいて該基板が不良であるか否かの良否判定を行う判定部と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (7)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/00 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68

FI (8)：

B05C 11/00 ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 Z ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 Z

F-Term (44)：

2G051AA51 ,  2G051AA71 ,  2G051AB02 ,  2G051DA03 ,  2G051DA07 ,  2G051DA17 ,  2G051EA12 ,  2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096GA21 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA08 ,  4F042AA10 ,  4F042DH02 ,  4F042DH09 ,  4M106AA01 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ27 ,  4M106DJ40 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031GA43 ,  5F031GA49 ,  5F031JA50 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F031NA02 ,  5F031PA02 ,  5F046JA21 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18