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J-GLOBAL ID:200903049920494344

抗菌加工方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992024535
Publication number (International publication number):1993184647
Application date: Jan. 14, 1992
Publication date: Jul. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 抗菌性ゼオライトの本来の抗菌性能を十分に且つ恒久的に発揮させ得る抗菌加工方法を提供する。【構成】 セルロースジアセテートと、アセトンより揮発性の低い溶剤と、抗菌性ゼオライトとによって、セルロースジアセテートと抗菌性ゼオライトとの比率が1:0.3 以上1:20以下に調整されたコロイド状液を形成し、このコロイド状液を加工対象物に噴霧又は塗布或いは印捺して乾燥することを特徴とする抗菌加工方法である。
Claim (excerpt):
セルロースジアセテートと、アセトンより揮発性の低い溶剤と、抗菌性ゼオライトとによって、セルロースジアセテートと抗菌性ゼオライトとの比率が1:0.3 以上1:20以下に調整されたコロイド状液を形成し、このコロイド状液を加工対象物に噴霧又は塗布或いは印捺して乾燥することを特徴とする抗菌加工方法。
IPC (5):
A61L 2/16 ,  C02F 1/50 ,  D06M 11/00 ,  D06M 15/07 ,  D06M 23/00
FI (3):
D06M 21/00 C ,  D06M 11/00 G ,  D06M 15/07

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