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J-GLOBAL ID：200903049946283120

ヒト表皮細胞培養用培地

Inventor： 橋本 公二
Applicant, Patent owner： 大塚製薬株式会社
Agent (1)： 三枝 英二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993123725
Publication number (International publication number)：1994327470
Application date： May. 26, 1993
Publication date： Nov. 29, 1994
Summary：

【要約】【構成】 本発明は、組織培養用のMCDB153基礎培地において、ヒスチジンを約3倍、イソロイシンを約50〜100倍、メチオニンを約6〜12倍、フェニルアラニンを約6〜12倍、トリプトファンを約3〜6倍及びチロシンを約10〜20倍の配合となるように改変したヒト表皮細胞培養用基礎培地、これに更にヒト表皮細胞の増殖支持に有効量の成長促進物質及び薬理有効量の抗生物質を含むヒト表皮細胞増殖用培地並びにヒト表皮細胞の増殖方法を提供する。【効果】 本発明培地は、ヒト表皮細胞の増殖に有用である。

Claim (excerpt)：

組織培養用のMCDB153基礎培地において、ヒスチジンを約3倍、イソロイシンを約50〜100倍、メチオニンを約6〜12倍、フェニルアラニンを約6〜12倍、トリプトファンを約3〜6倍及びチロシンを約10〜20倍の配合となるように改変したことを特徴とするヒト表皮細胞培養用基礎培地。