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J-GLOBAL ID：200903049950205258

反射型マスク、反射型マスク製造方法及び反射型マスク洗浄方法

Inventor： 高橋 政志 ,  米田 尚史
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社 ,  島田理化工業株式会社
Agent (1)： 青木 俊明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001326022
Publication number (International publication number)：2003133205
Application date： Oct. 24, 2001
Publication date： May. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】液洗浄耐性を有する材質から成る膜を表面に形成することによって、付着物を洗浄除去することができるようにする。【解決手段】下地基板21及び該下地基板21上に形成された露光波長での屈折率が異なる複数種類の材質から成る多層膜22を備えるマスクブランクス20と、該マスクブランクス20上に形成されたマスクパターンと、前記マスクブランクス20又はマスクパターンの少なくとも1面をコーティングする耐薬液洗浄保護膜とを有する。

Claim (excerpt)：

(a)下地基板及び該下地基板上に形成された露光波長での屈折率が異なる複数種類の材質から成る多層膜を備えるマスクブランクスと、(b)該マスクブランクス上に形成されたマスクパターンと、(c)前記マスクブランクス又はマスクパターンの少なくとも1面をコーティングする耐薬液洗浄保護膜とを有することを特徴とする反射型マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (4)：

G03F 1/16 A ,  G03F 1/16 Z ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (6)：

2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BB22 ,  2H095BC20 ,  5F046CB17 ,  5F046GD10