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J-GLOBAL ID：200903049977649000

ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、これらの製造方法及びフォトレジスト物質

Inventor： 金 鎭伯 ,  金 賢友
Applicant, Patent owner： 現代電子産業株式会社 ,  韓国科学技術院
Agent (1)： 荒船 博司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996317892
Publication number (International publication number)：1997188716
Application date： Nov. 28, 1996
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明の主な目的は、ビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体及び前記共重合体のビニル 4-ヒドロキシベンザル基の全部、又は一部をt-ブトキシカルボニル基で保護した重合体を提供することである。【解決手段】 本発明はポリ(ビニル アルコール)を4-ヒドロキシベンズアルデヒドでアセタル化させたビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体、前記重合体の4-ヒドロキシベンザル基の全部又は一部をt-ブトキシカルボニル基で保護したビニル 4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体(共重合体(II))又はビニル 4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体(共重合体(III))、それらの製造方法及びそれら共重合体のフォトレジストとしての用途に関する。

Claim (excerpt)：

一般式(I)で表されるビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体。【化1】(式中、aが5〜70モル%に対応し、bが1〜60モル%に対応し、cが0〜40モル%に対応する。)

IPC (7)：

C08F 8/28 MGZ ,  C08F 8/14 MGN ,  C08F216/06 MKV ,  C08F216/38 MLC ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (7)：

C08F 8/28 MGZ ,  C08F 8/14 MGN ,  C08F216/06 MKV ,  C08F216/38 MLC ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R