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J-GLOBAL ID:200903049992307468

高分子水分散体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995153339
Publication number (International publication number):1997003106
Application date: Jun. 20, 1995
Publication date: Jan. 07, 1997
Summary:
【要約】【目的】 皮膚化粧料、毛髪化粧料、医療材料、繊維材料、紙加工材料、包装材料、被覆材料、食品材料等に有用な、キトサンを高濃度で含有する分散安定性の良好な高分子水分散体及びその製造方法の提供。【構成】 酸官能基を有するラジカル重合可能なエチレン性不飽和単量体および非重合性の酸を用いてアミノ基の全部または一部を中和したキトサンの存在下、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和単量体を水中で重合することにより、平均粒径が1μm 以下であり、キトサンが粒子表面または粒子表面及び内部に存在している高分子水分散体を得る。
Claim (excerpt):
平均粒径が1μm 以下であり、キトサンが粒子表面または粒子表面及び内部に存在していることを特徴とする高分子水分散体。
IPC (6):
C08F 2/22 MBL ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  C08F 2/44 MCS ,  C08F251/00 MQA ,  C08L 5/08 LAX
FI (6):
C08F 2/22 MBL ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/06 ,  C08F 2/44 MCS ,  C08F251/00 MQA ,  C08L 5/08 LAX
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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