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J-GLOBAL ID:200903050001426136

基板洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993259861
Publication number (International publication number):1995114174
Application date: Oct. 18, 1993
Publication date: May. 02, 1995
Summary:
【要約】【目的】 基板の上端面上の洗浄液を基板の表面上に垂れ落ちることなく取り除くことができる基板洗浄装置提供する。【構成】 基板(R)をほぼ垂直に、かつ基板(R)の対向する2つの端面がほぼ水平になるように保持し、その保持された基板(R)に洗浄液を噴射して洗浄する。そして除去手段(21、22)は保持手段(30)によって保持された基板(R)の上端面(Ra)上の洗浄液を取り除く。
Claim (excerpt):
矩形状の基板をほぼ垂直に、かつ該基板の対向する2つの端面がほぼ水平となるように保持する保持手段と、前記垂直に保持された基板に洗浄液を噴射して前記基板を洗浄する洗浄手段とを有する基板洗浄装置において、前記保持手段によって保持された基板の上端面上の洗浄液を取り除く除去手段を有することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3):
G03F 1/08 ,  B08B 11/04 ,  H01L 21/304 341

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