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J-GLOBAL ID：200903050010965856

化学増幅型レジスト用光酸発生剤及びそれを含有するレジスト材料並びにパターン形成方法

Inventor： 大澤 洋一 ,  西 恒寛 ,  小林 知洋
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002129876
Publication number (International publication number)：2003322964
Application date： May. 01, 2002
Publication date： Nov. 14, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】 式(1)の化学増幅型レジスト用光酸発生剤。【化1】(R1、R2は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状の非置換又は酸素原子を有するアルキル基、又はR1とR2で炭素数4〜6の非置換又は酸素原子を有する環状構造を形成してもよい。R3、R4、R5は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基を示すが、少なくとも一つは炭素数6〜12のアリール基を示す。Y-は炭素数1〜10のアルキルスルホネート、炭素数6〜20のアリールスルホネート、炭素数2〜10のビスアルキルスルホニルイミド、又は炭素数3〜12のトリスアルキルスルホニルメチドを示す。)【効果】 本発明の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性かつ熱安定性、保存安定性にに優れ、ラインエッジラフネスも小さいという特徴を有する。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示される化学増幅型レジスト用光酸発生剤。【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ同一でも異なってもよく、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状の非置換又は酸素原子を有するアルキル基、又はR1とR2で炭素数4〜6の非置換又は酸素原子を有する環状構造を形成してもよい。R3、R4、R5はそれぞれ同一でも異なってもよく、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数6〜12の置換もしくは非置換のアリール基を示すが、R3、R4、R5の内少なくとも一つは炭素数6〜12の置換もしくは非置換のアリール基を示す。Y-は炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキルスルホネート、炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリールスルホネート、炭素数2〜10の置換もしくは非置換のビスアルキルスルホニルイミド、又は炭素数3〜12の置換もしくは非置換のトリスアルキルスルホニルメチドを示す。。)

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (14)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC03 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17