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J-GLOBAL ID:200903050026430600
荷電粒子線投影系における偏向収差補正
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001016996
Publication number (International publication number):2001244195
Application date: Jan. 25, 2001
Publication date: Sep. 07, 2001
Summary:
【要約】【解決課題】 荷電粒子線投影露光機では軸上での収差以外に、軸外のパターンを投影するとメインフィールド位置ズレ、メインフィールド位置に依存する収差がある。これを補正するために偏向器、焦点補正器からなる補正系が考えられるが、最適化された分解能、サブフィールド形状再現性が低下したり、偏向収差の補正が十分でなかったり、また補正器の位置に厳しい制限があり、装置構成が困難であった。【解決手段】 3つの非点収差補正器と3つの焦点補正器を用い、それらをメインフィールド位置に応じて駆動することにより分解能とサブフィールド再現性を確保しながら、偏向収差を解消でき、さらに補正器の設置位置の制限が厳しくない荷電粒子線装置、およびその操作方補が得られる。
Claim (excerpt):
分解能とサブフィールド形状の忠実再現性が調整された荷電粒子線投影装置の操作方法であって、所定のそれぞれの位置に荷電粒子線を偏向し、3つの動的焦点補正器と3つの非点収差補正器を使用して前記最適化された分解能とサブフィールド形状の忠実性を維持しながら偏向歪みを補正することを特徴とする操作方法。
IPC (3):
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/153
FI (3):
G03F 7/20 504
, H01J 37/153 Z
, H01L 21/30 541 D
Patent cited by the Patent:
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