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J-GLOBAL ID：200903050044737240

感刺激性組成物及び化合物

Inventor： 児玉 邦彦 ,  高橋 表
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003068447
Publication number (International publication number)：2004277303
Application date： Mar. 13, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：

【課題】高感度で、良好なプロファイルを示す感刺激性組成物、また、200nm以下、特にF2レーザー光(157nm)の露光波長において高感度の感光性組成物、更には、これらの組成物を提供すべく、外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する新規な化合物を提供する。【解決手段】外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する橋架け環状構造を有する特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物、及び橋架け環状構造を有する特定構造の化合物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。

IPC (4)：

C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4)：

C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

F-Term (18)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006TN40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-369145   Applicant：信越化学工業株式会社
• 特開昭61-050959
  
• 感放射線性レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-032855   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-361803   Applicant：東洋化成工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Synthesis, 1997, (6), p.623-624