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J-GLOBAL ID：200903050058100512

指紋照合装置

Inventor： 中島 寛 ,  小林 孝次 ,  山本 利夫 ,  岡部 元保
Applicant, Patent owner： 株式会社山武
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000073501
Publication number (International publication number)：2001266133
Application date： Mar. 16, 2000
Publication date： Sep. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】 指紋入力部に置かれた指の状態を直感的に瞬時に理解できるようにする。【解決手段】 表示部10-2に2次元パターンPを表示する。この2次元パターンPは、その大きさが入力指紋画像の面積を示し、内部の濃度が入力指紋画像の濃淡度を示し、位置が入力指紋画像の位置を示す。2次元パターンPの大きさは「大きさ1」,「大きさ2」,「大きさ3」の3段階、濃度は「パターン1(1/10密度)」,「パターン2(1/2密度)」,「パターン3(密度1)」の3段階、位置は「位置1」〜「位置9」の9段階用意されている。2次元パターンPの大きさ,内部の濃度,位置は入力指紋画像の面積,濃淡度,重心を算出して決める。

Claim (excerpt)：

指紋入力部と、この指紋入力部に置かれた指の指紋データを取り込む指紋データ取込手段と、取り込まれた指紋データと登録されている指紋データとを照合する照合手段と、指紋の状態を表示する表示手段とを備えた指紋照合装置において、前記指紋データ取込手段は、指紋の面積を算出すると共に、前記表示手段は、前記面積に基づいて適否を識別可能に大きさが段階的に変化する2次元パターンを表示することを特徴とする指紋照合装置。

IPC (2)：

G06T 1/00 400 ,  A61B 5/117

FI (2)：

G06T 1/00 400 G ,  A61B 5/10 322

F-Term (4)：

4C038FF01 ,  4C038FF05 ,  4C038FG01 ,  5B047AA25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-223576
  
• 電界指紋センサ装置および関連方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-012980   Applicant：ハリス・コーポレーション
• 特開平3-180988