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J-GLOBAL ID：200903050068691144

投影露光装置

Inventor： 辻 寿彦 ,  谷口 哲夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991195315
Publication number (International publication number)：1993041344
Application date： Aug. 05, 1991
Publication date： Feb. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 テストレチクル等を用いることなく、像面湾曲、像面傾斜、平均焦点面等の結像特性を計測可能とするとともに、結像特性を補正することを可能とする。【構成】 Zステージ14上に5つの開口(21a〜21e)を有する基準部材20を設け、開口21a〜21eの夫々を下方から照明し、レチクルRに照明光を入射させる。そして、レチクルRに達した光のうちレチクルRで反射され、開口21の夫々を再び透過する光を受光して、受光量に応じた光電信号を出力する光電検出器28の出力と焦点検出系29の出力に基づいて、合焦位置検出部32Aにおいて像面状態を検出し、この検出情報から結像特性検出部32Bにより結像特性(像面湾曲、像面傾斜等)を算出する。この計測結果に基づいて、レンズエレメント(40、41、43、45)を駆動して結像特性を補正する。

Claim (excerpt)：

所定のマスクパターンが形成されたマスクを露光光で均一に照明する第1の照明系と、前記マスクパターンの像を所定の結像面内に形成する投影光学系と、前記所定結像面とほぼ一致するように感光基板を保持して、前記投影光学系の光軸方向及び該光軸と垂直な方向に移動可能なステージとを有する投影露光装置において、前記ステージ上に配置され、表面に所定の配置関係で複数の微小開口部が形成された基準部材と;前記複数の微小開口部を前記露光光、もしくは前記露光光とほぼ等しい波長の光で前記ステージ側から照明し、前記複数の微小開口部を透過した透過光を前記投影光学系を介して前記マスクに入射させる第2の照明系と;該第2の照明系による照明によって前記マスクに達した光のうち、前記マスクで反射して、前記投影光学系を介して再び前記複数の微小開口部の夫々を透過した反射光を個別に受光する受光面を有し、各受光量に応じた光電信号を個別に出力する光電検出手段と;前記ステージを前記投影光学系の光軸方向に移動させたときに前記光電検出手段から出力される各光電信号に基づいて、前記所定結像面の、前記複数の微小開口部の各位置での光軸方向の位置を検出する像面状態検出手段と;前記像面状態検出手段で検出された各位置情報に基づいて、前記投影光学系の焦点位置、像面傾斜及び像面湾曲の少なくとも1つの特性を算出する結像特性検出手段とを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-058349
  
• 特開昭62-291920
  
• 特開平1-286417
  
• 特開昭63-100303