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J-GLOBAL ID：200903050081422691
排ガス浄化用触媒
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993022980
Publication number (International publication number)：1994233918
Application date： Feb. 10, 1993
Publication date： Aug. 23, 1994
Summary：
【要約】【構成】 モノリス担体上に内燃機関から排出される一酸化炭素、炭化水素、窒素酸化物を低減せしめる触媒層が被覆された排ガス浄化用触媒において、該触媒層は、Pt、Pd、Rhのいずれかの貴金属あるいは複数の貴金属が耐熱性無機酸化物に担持された触媒粒子を含み、かつ触媒層全体としては、Pt、Pd、Rhの3種の貴金属を含み、更に該触媒層の表面から膜厚1/2以内の位置に、耐熱性無機酸化物に対し、2〜10重量%のPdが担持された触媒粒子を含み、かつ該触媒層の表面には、少なくともRhが担持された触媒粒子が露出していることを特徴とする排ガス浄化用触媒。【効果】 三元浄化性能、低温着火性等の排ガス浄化特性に優れるほか、耐久性にも優れているという利点を有するものであり、触媒活性成分たる貴金属も極めて有効に使用されている。
Claim (excerpt)：
モノリス担体上に内燃機関から排出される一酸化炭素、炭化水素、窒素酸化物を低減せしめる触媒層が被覆された排ガス浄化用触媒において、該触媒層は、Pt、Pd、Rhのいずれかの貴金属あるいは複数の貴金属が耐熱性無機酸化物に担持された触媒粒子を含み、かつ触媒層全体としては、Pt、Pd、Rhの3種の貴金属を含み、更に該触媒層の表面から膜厚1/2以内の位置に、耐熱性無機酸化物に対し、2〜10重量%のPdが担持された触媒粒子を含み、かつ該触媒層の表面には、少なくともRhが担持された触媒粒子が露出していることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (6)：
B01D 53/36 104
, B01D 53/36 ZAB
, B01J 23/46 ZAB
, B01J 23/46 311
, B01J 23/56 ZAB
, B01J 23/56 301
Cited by examiner (6)
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