Pat
J-GLOBAL ID:200903050188284275

開始剤/アミジン錯体、その錯体を含んでなる系、およびそれによる重合組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001535415
Publication number (International publication number):2003514923
Application date: Feb. 25, 2000
Publication date: Apr. 22, 2003
Summary:
【要約】本発明の開始剤系は、アミジン錯化剤と開始剤との錯体を含んでなる錯化開始剤、およびデコンプレクサー、を含んでなる。開始剤系は少なくとも1つのモノマーの重合を開始して重合組成物を形成するのに有用である。重合組成物を形成するのに有用な本発明のキットは、重合性組成物および開始剤コンポーネントを含んでなり、開始剤コンポーネントは錯化アミジン開始剤を含んでなる。結合組成物はキットの重合性組成物を各開始剤コンポーネントと混合して調製することができる。
Claim (excerpt):
アミジン錯化剤と開始剤との錯体を含んでなる錯化開始剤、およびデコンプレクサー、を含んでなる開始剤系。
IPC (4):
C08F 4/52 ,  C08F 20/00 510 ,  C07C279/04 ,  C07F 5/02
FI (4):
C08F 4/52 ,  C08F 20/00 510 ,  C07C279/04 ,  C07F 5/02 D
F-Term (10):
4H006AA03 ,  4H006AB82 ,  4H048AA03 ,  4H048AB40 ,  4H048VA30 ,  4H048VA32 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4J015DA04 ,  4J015DA33

Return to Previous Page