Pat

J-GLOBAL ID：200903050266331765

磁気記録媒体

Inventor： 安宅 豊路 ,  大久保 恵司 ,  金森 正志
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山田 稔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995131367
Publication number (International publication number)：1996329442
Application date： May. 30, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高保磁力を維持しつつ、磁気異方性を是正して磁気等方性に近づけることにより、高線記録密度で低ノイズの磁気記録媒体を提供する。【構成】 磁気ディスクの非磁性金属下地層3は2層構造で、純Cr膜の第1の下地層3aと、Taが4at.%添加のCr合金の第2の下地層3bとから構成されている。円周方向保磁力が半径方向保磁力に比して高い磁気異方性を生じさせるCr膜の第1の下地層3aと円周方向保磁力が半径方向保磁力に比して低い磁気異方性を生じさせるTa添加Cr合金の第2の下地層3bとを非磁性金属下地層3とする媒体では、磁気異方性が緩和されて磁気等方性に近づくので、低ノイズ化が実現される。また、保磁力の値は、それぞれを構成する下地層3a,3bのそれよりも増加しているので、高線記録密度が実現される。

Claim (excerpt)：

非磁性基体上に、非磁性金属下地層,磁性層及び保護層を順次積層形成して成る磁気記録媒体において、前記非磁性金属下地層は、円周方向保磁力が半径方向保磁力に比して高い磁気異方性を生じさせる第1の下地層と、円周方向保磁力が半径方向保磁力に比して低い磁気異方性を生じさせる第2の下地層とを以て組み合わされた複層構造であることを特徴とする磁気記録媒体。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 磁気記録媒体とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-180767   Applicant：富士通株式会社