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J-GLOBAL ID：200903050289823169

フォトレジスト剥離用組成物

Inventor： 藤本 秀機
Applicant, Patent owner： 東レ・ファインケミカル株式会社
Agent (1)： 香川 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997178927
Publication number (International publication number)：1999016882
Application date： Jun. 19, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】アルミニウム等の導電膜を全く腐食することなく、エッチング時に形成されるレジスト変性物、および側壁保護膜を低温で短時間で剥離処理できるフォトレジスト剥離用組成物を提供する。【解決手段】非プロトン性極性溶媒が5〜90重量%、水が1〜70重量%、フッ化物が0.01〜20重量%、および第四級アンモニウム塩もしくはヒドロキシルアミン類が0.01〜20重量%からなるフォトレジスト剥離用組成物。

Claim (excerpt)：

非プロトン性極性溶媒、水、フッ化物および第四級アンモニウム塩もしくはヒドロキシルアミン類からなることを特徴とするフォトレジスト剥離用組成物。

IPC (6)：

H01L 21/306 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (6)：

H01L 21/306 E ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B