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J-GLOBAL ID：200903050302322581

フォトリフラクティブ高分子

Inventor： ハリ・シング・ナルワ ,  角田 敦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994110720
Publication number (International publication number)：1995318991
Application date： May. 25, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【構成】有機電気光学材料,有機光導電材料及び増感剤から構成されるフォトリフラクティブ高分子。【効果】高い安定性,大きな光導電性,電気光学特性,成型性,機械的強度を示すフォトリフラクティブ高分子が得られ、各種のエレクトロニクス,フォトニクス素子に適用できる。

Claim (excerpt)：

構造中に光導電性を示す基を有することを特徴とするフォトリフラクティブ高分子。