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J-GLOBAL ID：200903050320283097

酸化物被膜形成用塗布液、酸化物被膜の製造法および半導体装置

Inventor： 森嶋 浩之 ,  島村 泰夫 ,  山本 靖浩
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994321823
Publication number (International publication number)：1996034957
Application date： Dec. 26, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】 安定で、成膜性の良好な酸化物被膜を生成する酸化物被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 (A)一般式【化1】(Rは水素または炭素数が1〜4のアルキル基を意味し、nは5〜1000の整数である)で表わされるポリシラザン樹脂ならびに(B)一般式【化2】(R′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)および/または一般式【化3】(R′′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表わされるフッ素アルコキシシラン化合物を含有してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を用いた酸化物被膜の製造法、この酸化物被膜を用いた半導体装置。

Claim (excerpt)：

(A)一般式【化1】(Rは水素または炭素数が1〜4のアルキル基を意味し、nは5〜1000の整数である)で表わされるポリシラザン樹脂ならびに(B)一般式【化2】(R′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表わされるフッ素アルコキシシラン化合物および/または一般式【化3】(R′′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表わされるフッ素アルコキシシラン化合物を含有してなる酸化物被膜形成用塗布液。

IPC (4)：

C09D183/16 PMT ,  B05D 3/02 ,  B05D 7/24 302 ,  H01L 21/316