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J-GLOBAL ID：200903050325462500

光ビーム均一化光学系

Inventor： 中井 出 ,  岡田 俊治 ,  植杉 雄二
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 石原 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993167711
Publication number (International publication number)：1995027993
Application date： Jul. 07, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 光ビームの照射スポットの形状の縦横比を自在に変えられ、かつ焦点部でのエネルギの高密度化を低減できるようにする。【構成】 光ビーム1を入射側のシリンドリカルレンズ4、6により一方向に集光させて、この集光された光ビーム1の集光寸法に対応する断面寸法の方形断面を持った光導波路2、3に入射させ、この光導波路2、3から出射される光ビーム1を出射側のシリンドリカルレンズ5、7により前記と同じ一方向に集光させて照射面8に結像させる2つの光学系A、Bを、前後2段に配置し、後段の光学系Bは前段の光学系Aに対し光軸まわりに90度回転させた配置としたことを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

光ビームを入射側のシリンドリカルレンズにより一方向に集光させて、この集光された光ビームの集光寸法に対応する断面寸法の方形断面を持った光導波路に入射させ、この光導波路から出射される光ビームを出射側のシリンドリカルレンズにより前記と同じ一方向に集光させて照射面に結像させる光学系を、前後2段に配置し、後段の光学系は前段の光学系に対し光軸まわりに90度回転させた配置としたことを特徴とする光ビーム均一化光学系。

IPC (3)：

G02B 27/09 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08