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J-GLOBAL ID：200903050329606603

磁気分離装置

Inventor： 佐保 典英 ,  磯上 尚志 ,  森田 穣 ,  佐野 理志
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高崎 芳紘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998178442
Publication number (International publication number)：2000005526
Application date： Jun. 25, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 連続的に良好に磁性フロックを洗浄可能で、高密度の洗浄汚泥を排出可能な、高勾配磁気分離装置を提供する。【解決手段】 空心電磁石9a、9bの形成する磁場内で吸着マトリックス群4a、4bに吸着された磁性フロックは吸着マトリックス群の回動により洗浄箱13内に移動し、洗浄される。この洗浄箱には空心電磁石27a、27bが設けられ、これにより空心電磁石9a、9bからの漏れ磁界を打ち消すことで、吸着マトリックスの洗浄効果を高める。

Claim (excerpt)：

可動な磁気マトリックスと、被処理水中の磁性を有した被除去物を第1の磁場発生手段により形成された磁場内で前記磁気マトリックスに吸着させるための分離部と、この分離部で被除去物を吸着したのち移動してきた磁気マトリックスを洗浄して吸着された被除去物を磁気マトリックスから取り去るための洗浄部とを備えた磁気分離装置において、前記第1の磁場発生手段が前記洗浄部に形成する磁場を打ち消すための第2の磁場発生手段を設けたことを特徴とする磁気分離装置。

IPC (2)：

B01D 35/06 ,  C02F 1/48

FI (2)：

B01D 35/06 M ,  C02F 1/48 A

F-Term (13)：

4D061AA01 ,  4D061AA08 ,  4D061AB01 ,  4D061AB02 ,  4D061AB15 ,  4D061AC07 ,  4D061AC08 ,  4D061AC13 ,  4D061BA18 ,  4D061BC01 ,  4D061BC11 ,  4D061BC13 ,  4D061BD06