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J-GLOBAL ID：200903050330045631

ナノシリコン含有白色発光酸化ケイ素膜とその製造方法

Inventor： 佐藤 慶介 ,  平栗 健二
Applicant, Patent owner： 学校法人東京電機大学
Agent (6)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  亀松 宏 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005250157
Publication number (International publication number)：2007063378
Application date： Aug. 30, 2005
Publication date： Mar. 15, 2007
Summary：

【課題】 赤色、緑色、青色に発光するナノシリコンを、ケイ素膜内に含有した状態で白色発光させ、かつ、白色発光を鮮明かつ安定に得、さらに、白色発光するナノシリコン含有酸化ケイ素膜を製造する方法を確立する。【解決手段】 酸化ケイ素膜内に、高周波スパッタリング法と熱処理で形成された粒子サイズ1.5〜3.5nmの発光ナノシリコンを含有し、紫外光線照射により、青色、緑色、及び、赤色(光の三原色)を合わせた白色を、鮮明かつ安定して発光することを特徴とするナノシリコン含有白色発光酸化ケイ素膜であって、高周波スパッタリング法と熱処理法により製造する。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

酸化ケイ素膜内に、高周波スパッタリングと熱処理で形成された粒子サイズ1.5〜3.5nmの発光ナノシリコンを含有し、紫外光線照射により、青色、緑色、及び、赤色(光の三原色)を合わせた白色を、鮮明かつ安定して発光することを特徴とするナノシリコン含有白色発光酸化ケイ素膜。

IPC (4)：

C09K 11/00 ,  C01B 33/12 ,  C09K 11/59 ,  C09K 11/02

FI (4)：

C09K11/00 A ,  C01B33/12 Z ,  C09K11/59 ,  C09K11/02 A

F-Term (18)：

4G072AA01 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB13 ,  4G072BB20 ,  4G072DD07 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH14 ,  4G072NN11 ,  4G072RR11 ,  4G072TT01 ,  4G072UU30 ,  4H001CA02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA14 ,  4H001YA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 超微結晶シリコン発光材料、その製造方法、超微結晶シリコン発光材料を用いた素子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-054890   Applicant：理化学研究所