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J-GLOBAL ID:200903050349933180

ガスセンサ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991238021
Publication number (International publication number):1993072162
Application date: Sep. 18, 1991
Publication date: Mar. 23, 1993
Summary:
【要約】【目的】 エタノール、プロパンおよび一酸化炭素等の雑ガスに対する感度を向上させると共に、長時間の使用あるいは高湿雰囲気での使用におけるガス感度の変化を抑制し、経時安定性を向上させる。【構成】 ヒータ2を内蔵する絶縁基板1上には、対向して形成された一対の電極3、4が設けられている。これら一対の電極3、4に跨って金属酸化物半導体からなるガス感応膜5が形成されている。このガス感応膜5を覆うように、銅、タングステン、ニッケル、およびリンの4種類の元素もしくはその酸化物をアルミナ担体に担持させた触媒により構成された触媒層6を設ける。
Claim (excerpt):
絶縁性基板と、この絶縁性基板上に対向して形成された一対の電極と、これら一対の電極に跨って形成された金属酸化物半導体からなるガス感応膜と、このガス感応膜を覆うように形成された触媒層とを具備するガスセンサにおいて、前記触媒層は、アルミナを担体とし、この担体に銅、タングステン、ニッケルおよびリンもしくはその酸化物を担持させた触媒により構成されていることを特徴とするガスセンサ。

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