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J-GLOBAL ID：200903050351850593
成膜装置およびその排気トラップ
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991341828
Publication number (International publication number)：1993160029
Application date： Dec. 02, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：
【要約】【目的】ガス排出管内にプラズマ種が侵入するのを防止し、成膜チャンバーの清掃作業を容易にして、稼動率を向上させる。【構成】成膜チャンバー2のガス排気口8の入り側にプラズマ種を捕捉する着脱可能な排気トラップ5を設ける。【効果】排気トラップが排気ガス中のプラズマ種を捕捉し、ガス排出管内にはプラズマ種が入り込むことを防止する。
Claim (excerpt)：
反応ガスの導入口および排気口を有して真空雰囲気空間を保持する成膜チャンバーと、前記成膜チャンバー内に設置された高周波電極と、前記高周波電極と平行に対峙して設置された基板電極とを少なくとも備え、前記成膜チャンバー内に導入された反応ガスを前記高周波電極と前記基板電極との間に形成される高周波電界によりプラズマ化することにより前記基板電極に載置された基板の表面に薄膜を形成する成膜装置において、前記排気口の入り側に前記プラズマ化したガスを捕捉する着脱可能な排気トラップを設けたことを特徴とする成膜装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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