Pat
J-GLOBAL ID：200903050353690143

排水処理装置及び排水処理システム

Inventor：
広 直樹

About 広 直樹

, 
中澤 範行

About 中澤 範行


Applicant, Patent owner：
三洋電機株式会社

About 三洋電機株式会社


Agent (1)： 雨笠 敬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001054834
Publication number (International publication number)：2002254081
Application date： Feb. 28, 2001
Publication date： Sep. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 同一処理槽内で窒素化合物及びリン化合物の処理を行うと共に、効率的に窒素化合物及びリン化合物を含む被処理水の処理を行うことができる排水処理装置を提供する。【解決手段】 電気化学的手法により被処理水中の窒素化合物及びリン化合物を処理する排水処理装置1であって、被処理水を受容する処理槽2と、該被処理水に少なくとも一部が浸漬されると共に、導電性材料にて構成されるカソード6と、被処理水に少なくとも一部が浸漬されると共に、導電性の不溶性材料又はカーボンにて構成されるアノード5と、処理槽2内に、被処理水中に浸漬され、アノード5及びカソード6と離間した位置に鉄棒15を備えた。
Claim (excerpt)：
電気化学的手法により被処理水中の窒素化合物及びリン化合物を処理する排水処理装置であって、被処理水を受容する処理槽と、該被処理水に少なくとも一部が浸漬されると共に、導電性材料にて構成されるカソードと、前記被処理水に少なくとも一部が浸漬されると共に、導電性の不溶性材料又はカーボンにて構成されるアノードと、前記処理槽内に、前記被処理水中に浸漬され、前記アノード及び前記カソードと離間した位置に鉄材料を備えたことを特徴とする排水処理装置。
IPC (3)：
C02F 1/461 ,  C02F 1/58 ,  C02F 3/12
FI (4)：
C02F 1/58 R ,  C02F 3/12 E ,  C02F 1/46 101 A ,  C02F 1/46 101 C
F-Term (27)：
4D028AA00 ,  4D038AA05 ,  4D038AA08 ,  4D038AB46 ,  4D038BA02 ,  4D038BB10 ,  4D038BB12 ,  4D038BB19 ,  4D061DA02 ,  4D061DA06 ,  4D061DA07 ,  4D061DA08 ,  4D061DB15 ,  4D061DB19 ,  4D061DC14 ,  4D061DC15 ,  4D061EA02 ,  4D061EA03 ,  4D061EA04 ,  4D061EA08 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061EB31 ,  4D061FA10 ,  4D061FA15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM