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J-GLOBAL ID：200903050355248529

ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置

Inventor： 藤原 昇 ,  田辺 尚 ,  中川 健一 ,  角田 昌彦
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社 ,  千代田エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998117020
Publication number (International publication number)：1999070320
Application date： Apr. 27, 1998
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】 排ガス中のダイオキシンをきわめて効率良く除去することができるダイオキシン除去方法及び装置を提供する。【解決手段】 排ガスは乾式集塵機1で粉塵が除去された後、前段液接触室2でポンプ3による水と接触してダイオキシンが吸収される。洗浄塔4内では、並列に2個の液接触室6,6′が設けられ、活性炭分散水8,8′を循環させるように循環ライン5C、5′Cが接続されている。循環ライン5′Cには水冷却器15が設けられており、循環水が冷却される。このため、液接触室6′を通過したガスは液接触室6を通過したガスよりも低温となる。液接触室6、6′を通過したガスは水蒸気で飽和しているので、液接触室6,6′を通過したガスを混合室12で混合することにより大量の白煙が発生する。これにより、ガス中の粒子が成長し、集塵機13で確実に除去される。

Claim (excerpt)：

ダイオキシン含有ガスを、ダイオキシン吸着材を含み、かつ乾きガスの重量比で7倍以上の量の水と接触させて急冷した後、45°C以下の温度の水で洗浄するダイオキシン含有ガスの処理方法。

IPC (11)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/77 ,  B01D 51/10 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01J 20/20 ,  F23J 15/00 ,  F23J 15/06 ,  F23J 15/04 ,  F27D 17/00 104 ,  F27D 17/00 ,  F27D 17/00 105

FI (10)：

B01D 53/34 134 F ,  B01D 51/10 A ,  B01J 20/20 Z ,  F27D 17/00 104 D ,  F27D 17/00 104 G ,  F27D 17/00 105 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  F23J 15/00 J ,  F23J 15/00 K ,  F23J 15/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 排ガス処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-090253   Applicant：三菱重工業株式会社
• 排ガス処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-201081   Applicant：トピー工業株式会社
• 高温排ガス強制急速冷却装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-011792   Applicant：田村哲人