難燃剤、難燃性樹脂組成物及び難燃性樹脂成形体

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三枝英二 (外10名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998032770
Publication number (International publication number)：1999181429
Application date： Feb. 16, 1998
Publication date： Jul. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、ハロゲンを含まず、高融点、低揮発性で且つ樹脂本来の特性を低下させない等の利点を備えた難燃剤を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の難燃剤は、ホスファゼン化合物をフェニレン基等の架橋基で架橋した化合物であって、該架橋基はフェニル基が脱離した2個の酸素原子間に介在しており、架橋化合物中のフェニル基の含有割合が上記ホスファゼン化合物中の全フェニル基の総数を基準に50〜99.9%である架橋フェノキシホスファゼン化合物等からなるものである。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】[式中mは3〜25の整数を示す。Phはフェニル基を示す。]で表される環状ホスファゼン化合物及び一般式(2)【化2】[式中Xは基-N=P(OPh)3又は基-N=P(O)OPhを示し、Yは基-P(OPh)4又は基-P(O)(OPh)2を示す。nは3〜1000の整数を示す。Phは前記に同じ。]で表される直鎖状ホスファゼン化合物からなる群より選ばれた少なくとも1種のホスファゼン化合物が、o-,m-,p-フェニレン基、ビフェニレン基及び基【化3】[式中Aは-C(CH3)2-、-SO2-、-S-又は-O-を示す。]からなる群より選ばれた少なくとも1種の架橋基により架橋されている化合物であって、該架橋基は上記ホスファゼン化合物のフェニル基が脱離した2個の酸素原子間に介在しており、架橋化合物中のフェニル基の含有割合が上記ホスファゼン化合物(1)及び/又は(2)中の全フェニル基の総数を基準に50〜99.9%であることを特徴とする架橋フェノキシホスファゼン化合物からなる難燃剤。

IPC (5)：

C09K 21/12 , B05D 5/10 , C08K 5/5399 , C08L101/00 , C08J 5/00

FI (5)：

C09K 21/12 , B05D 5/10 , C08K 5/5399 , C08L101/00 , C08J 5/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開昭56-153987
特開昭56-153987
特開昭56-153987

Return to Previous Page