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J-GLOBAL ID：200903050365142575
露光装置及び露光方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995046698
Publication number (International publication number)：1996241847
Application date： Mar. 07, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】プラズマX線源において、発生した真空紫外線や軟X線を強度を低下させることなく露光し、併せて光学素子の損傷を防ぎ、装置の露光強度向上及びランニング・コストを低減する。【構成】プラズマの発光点と光学素子12との間に周期的に開閉するシャッタ機構11を設け、プラズマ発光点で真空紫外線や軟X線9が発生した際にはシャッタが開くとともに、プラズマ発光点からの蒸散物や衝撃波10が飛散した際にはシャッタが閉じる。【効果】プラズマX線源から発生した真空紫外線や軟X線の強度を低下させることなく光学素子の損傷が防げる結果、露光強度の向上が可能になるとともに、光学素子の長寿命化や稼働率向上によって、装置のランニングコスト低減が可能となる。
Claim (excerpt)：
プラズマから放射されるパルス状の真空紫外線又は軟X線を発生するプラズマX線源と、上記真空紫外線又は軟X線を光学素子を介して試料に露光を行う露光手段と、上記プラズマX線源と上記光学素子との間に上記真空紫外線又は軟X線を透過し、デブリの透過を遮断するシャッタ機構とをもつことを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 531 A
, G03F 9/00 H
