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J-GLOBAL ID:200903050379975740
フォトニック結晶構造及び作製法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
雨宮 正季
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000059927
Publication number (International publication number):2001249235
Application date: Mar. 06, 2000
Publication date: Sep. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 フォトニック結晶で光回路を構成する場合に3次元フォトニック結晶のみでは回路を作り込むことが困難であり、2次元フォトニック結晶では閉じ込めが不十分になるという問題点を解決する。【解決手段】 第一の3次元フォトニック結晶17、2次元フォトニック結晶14、第二の3次元フォトニック結晶17を積層した構造を有することを特徴とするフォトニック結晶構造及び上記3次元フォトニック結晶を屈折率の異なる層を交互に積層することにより形成し、2次元フォトニック結晶をリソグラフィにより2次元の周期構造の加工を施して形成する作製法で解決できる。【効果】 2次元フォトニック結晶の表裏面を3次元フォトニック結晶を形成したため、フォトニック結晶で光回路を構成する場合に3次元フォトニック結晶のみでは回路を作り込むことが困難であり、2次元フォトニック結晶では閉じ込めが不十分になるという問題点を解決することができる。
Claim (excerpt):
第一の3次元フォトニック結晶、2次元フォトニック結晶、第二の3次元フォトニック結晶を積層した構造を有することを特徴とするフォトニック結晶構造。
IPC (5):
G02B 6/12
, C23C 14/06
, G02B 6/13
, H01S 5/20
, H01S 5/343
FI (6):
C23C 14/06 P
, H01S 5/20
, H01S 5/343
, G02B 6/12 Z
, G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
F-Term (19):
2H047KA03
, 2H047PA04
, 2H047QA02
, 2H047QA04
, 4K029AA06
, 4K029BA35
, 4K029BA46
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 5F073AA62
, 5F073AA75
, 5F073AB17
, 5F073AB25
, 5F073CA04
, 5F073CA07
, 5F073DA24
, 5F073DA35
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