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J-GLOBAL ID：200903050383596494

真空圧力制御システム

Inventor：
須藤 良久

About 須藤 良久

, 
渡辺 雅之

About 渡辺 雅之


Applicant, Patent owner：
シーケーディ株式会社

About シーケーディ株式会社


Agent (1)： 富澤 孝 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998333689
Publication number (International publication number)：1999333277
Application date： Nov. 25, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：
【要約】【課題】 真空チャンバ内の真空圧力を迅速に調整することができ、かつ、全体をコンパクトにすることを可能にした真空圧力制御システムを提供すること。【解決手段】 真空チャンバ4Aと、真空チャンバ4A内に供給されたガスを吸引するための真空ポンプ9と、真空チャンバ4Aにガスを供給するガス供給源と、真空チャンバ4Aと真空ポンプ9とを接続するための排出用配管8と、真空チャンバ4Aとガス供給源とを接続するための供給用配管7と、真空チャンバ4A内の真空圧力を検出するための圧力センサ25とを有する真空圧力制御システムであって、(a)供給用配管7上に配置され、空気圧により流量が制御される空気圧制御弁10と、(b)空気圧制御弁10へ所定の空気圧力を与える電空レギュレータ18と、(c)圧力センサ25の出力を受けて電空レギュレータ18の出力空気圧力を制御するコントローラ19と、(d)排出用配管8上に配置され、排出用配管8を流れる流量を遮断し、または絞る絞り弁15とを有している。
Claim (excerpt)：
真空容器と、前記真空容器内に供給されたガスを吸引するための真空源と、前記真空容器にガスを供給するガス供給源と、前記真空容器と前記真空源とを接続するための真空排気配管と、前記真空容器と前記ガス供給源とを接続するためのガス供給配管と、前記真空容器内の真空圧力を検出するための圧力センサとを有する真空圧力制御システムにおいて、前記ガス供給配管上に配置され、空気圧により流量が制御される空圧制御弁と、前記空圧制御弁へ所定の空気圧力を与える電空レギュレータと、前記圧力センサの出力を受けて前記電空レギュレータの出力空気圧力を制御するコントローラと、前記真空排気配管上に配置され、前記真空排気配管を流れる流量を遮断し、または絞る絞り弁とを有することを特徴とする真空圧力制御システム。
IPC (8)：
B01J 3/02 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  F15B 11/06 ,  F16K 51/02 ,  G05D 16/20 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68
FI (8)：
B01J 3/02 L ,  C23C 14/00 C ,  C23C 16/44 D ,  F16K 51/02 Z ,  G05D 16/20 A ,  H01L 21/68 A ,  F15B 11/06 R ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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