放射線照射システム及び放射線照射方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田澤博昭 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001014870
Publication number (International publication number)：2002210028
Application date： Jan. 23, 2001
Publication date： Jul. 30, 2002
Summary：

【要約】【課題】放射線の利用効率が低いという課題があった。【解決手段】放射線を照射すべき放射線照射領域3とその周辺領域とを複数の単位照射領域に分割し、分割した各単位照射領域の形状に合わせて放射線を照射する放射線照射シミュレーションを実行し、放射線照射領域3における平坦度が所望の範囲内にあって、周辺領域の単位照射領域に照射される放射線の線量が最小となる放射線照射条件を求める。

Claim (excerpt)：

放射線を照射すべき放射線照射領域とその周辺領域とを複数の単位照射領域に分割し、分割した各単位照射領域の形状に合わせて放射線を照射する放射線照射シミュレーションを実行するシミュレーション手段と、このシミュレーション手段が上記放射線照射シミュレーションを実行すると、上記放射線照射領域において放射線が適切な線量で一様に照射される度合である平坦度が所望の範囲内にあって、上記周辺領域の単位照射領域に照射される放射線の線量が最小となる放射線照射条件を求め、この放射線照射条件を反映した放射線の照射計画を立案する照射計画立案手段とを備えた放射線照射システム。

IPC (3)：

A61N 5/10 , G21K 5/00 , G21K 5/04

FI (3)：

A61N 5/10 P , G21K 5/00 A , G21K 5/04 A

F-Term (4)：

4C082AA01 , 4C082AC05 , 4C082AE01 , 4C082AN05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

荷電粒子ビーム装置およびその運転方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-322484 Applicant：株式会社日立製作所
特公平3-043904
特許第2833602号

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