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J-GLOBAL ID:200903050408316963

ウエーハ上の特性不良チップのマーキング方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996131183
Publication number (International publication number):1997293762
Application date: Apr. 26, 1996
Publication date: Nov. 11, 1997
Summary:
【要約】【課題】 特性不良チップのマーキング時間短縮【解決手段】 この方法は、必要とする半導体装置が形成されているチップ領域と、TEG領域やウエーハの周囲など製品が形成されていないチップ領域とを含むウエーハにおいて、TEG領域やウエーハの周囲など製品が形成されていないチップ領域に特性不良マークドット塗布するようにしたものである。
Claim (excerpt):
必要とする半導体装置が形成されているチップ領域と、TEG領域やウエーハの周囲など製品が形成されていないチップ領域とを含むウエーハにおいて、TEG領域やウエーハの周囲など製品が形成されていないチップ領域に特性不良マークドット塗布するようにしたことを特徴とするウエーハ上の特性不良チップのマーキング方法。
IPC (2):
H01L 21/66 ,  H01L 21/02
FI (2):
H01L 21/66 A ,  H01L 21/02 A

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