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J-GLOBAL ID：200903050456723945

プラズマ発生装置およびこれを用いた表面処理装置

Inventor： 鶴巻 直哉
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996123470
Publication number (International publication number)：1997306695
Application date： May. 17, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 長寿命でかつ高効率で信頼性の高い薄膜形成およびエッチングに適用することのできるプラズマ発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の第1の特徴は、ガスを噴射するように構成されたノズル1の管壁に高周波誘導コイル5を配設してガスプラズマを生成するように構成されたプラズマ発生装置において、プラズマを生成するプラズマ生成部が、該ノズルの中心軸とコイルの中心軸とがほぼ垂直となるように配設せしめられていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

内部を通過した反応性ガスを一端から噴射するように構成されたノズルの外壁に高周波誘導コイルを配設して前記ノズルを通過する反応性ガスをプラズマ励起しガスプラズマを生成するように構成されたプラズマ発生装置において、前記高周波誘導コイルが、該ノズルの中心軸と前記コイルの中心軸とがほぼ垂直となるように配設せしめられていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 A ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B