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J-GLOBAL ID：200903050463215408

薄膜製造装置

Inventor： 吉田 隆
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993164904
Publication number (International publication number)：1995022337
Application date： Jul. 05, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】ステップロール方式の成膜とロールツーロール方式の成膜の双方を、ロール間を搬送する帯状可とう性基板に行うことを可能にする。【構成】ステップロール方式の成膜室を出た基板をロールツーロール方式の成膜室から引き戻し、順次送り出しながらロールツーロール方式の成膜を行う。引き戻しおよび送り出しは、基板を定位置で挟着する固定機構と、基板を挟着したままロールツーロール成膜室での1工程の成膜分だけ移動できる送り機構とからなる。

Claim (excerpt)：

静止した帯状基板上に薄膜を形成するステップロール成膜室と、移動する帯状基板上に薄膜を形成するロールツーロール成膜室とを有し、両成膜室の間にステップロール成膜室から出てロールツーロール成膜室を通り抜ける帯状基板を引き戻し、引き戻した基板を張った状態でロールツーロール成膜室に送り出すことのできる機構を備えたことを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 31/04