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J-GLOBAL ID:200903050490133235

超音波洗浄乾燥装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 一平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992263686
Publication number (International publication number):1994120197
Application date: Oct. 01, 1992
Publication date: Apr. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 フロンなどを用いず、可燃性溶剤を用いて、電子、光学、機械等の精密物品を安全、迅速で、かつ高精度に洗浄乾燥する。【構成】 可燃性溶剤を収容する洗浄槽と、可燃性溶剤で物品をリンス及び乾燥する蒸気リンス室と、物品を可燃性溶剤蒸気の凝縮液でシャワーする溶剤シャワー室と、洗浄槽内の溶剤を取り出して蒸発し、蒸気リンス室に可燃性溶剤蒸気を供給する蒸気発生装置と、乾燥ガスにより物品に付着した溶剤液分を乾燥する通気乾燥室からなり、蒸気リンス室と溶剤シャワー室の間、または溶剤シャワー室と通気乾燥室の間にシャッターを設けた超音波洗浄乾燥装置である。
Claim (excerpt):
可燃性溶剤を収容するとともに物品を超音波洗浄するための超音波洗浄装置を付設した洗浄槽と、洗浄槽の上部に設けられ、物品を清浄な可燃性溶剤蒸気でリンス及び乾燥する蒸気リンス室と、蒸気リンス室の上部に設けられ、物品に清浄な可燃性溶剤蒸気の凝縮液をシャワーするノズルを有する溶剤シャワー室と、前記洗浄槽内の溶剤を取り出して蒸発し、上記蒸気リンス室に清浄な可燃性溶剤蒸気を供給する蒸気発生装置と、清浄な乾燥ガスにより物品に付着した溶剤液分を乾燥する通気乾燥室とよりなる超音波洗浄乾燥装置において、上記蒸気リンス室と上記溶剤シャワー室の間、または上記溶剤シャワー室と上記通気乾燥室の間を仕切るシャッターにより遮蔽自在としたことを特徴とする超音波洗浄乾燥装置。
IPC (5):
H01L 21/304 351 ,  B08B 3/08 ZAB ,  C23G 5/04 ,  F26B 5/02 ,  H05K 3/26

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