X線縮小露光リソグラフ用光源装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大川宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997292947
Publication number (International publication number)：1999126745
Application date： Oct. 24, 1997
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】回路幅が1μm以下のX線縮小露光リソグラフ用光源装置を提供する。【解決手段】アルミニウム若しくはアルミニウム合金またはシリコン若しくはシリコン合金をターゲット4としてパルスレーザ1を照射するレーザプラズマ軟X線発生装置と、発生した前記レーザプラズマ軟X線3のうち波長が12.4〜17nmであるレーザプラズマ軟X線を透過する波長選択フィルタ9とからなる。波長13nm付近に強いX線スペクトル強度を有するX線を得ることができ、発生した前記レーザプラズマ軟X線のうち波長が12.4〜17nmであるレーザプラズマ軟X線を透過する波長選択フィルタを透過させることにより、従来の線幅の10分の1以下の線幅のリソグラフを得ることができる。また、12.4nm以下の短い波長の二次光をカットする波長選択ができ、縮小露光における画像の解像度を向上させる。

Claim (excerpt)：

アルミニウ若しくはアルミニウム合金またはシリコン若しくはシリコン合金をターゲットとしてパルスレーザを照射するレーザプラズマ軟X線発生装置と、発生した前記レーザプラズマ軟X線のうち波長が12.4〜17nmであるレーザプラズマ軟X線を透過する波長選択フィルタを備えていることを特徴とするX線縮小露光リソグラフ用光源装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G21K 5/02

FI (3)：

H01L 21/30 531 S , G03F 7/20 503 , G21K 5/02 X

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

X線露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-019138 Applicant：株式会社ニコン
露光装置及び露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-046698 Applicant：株式会社日立製作所
X線源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-097143 Applicant：理化学研究所, 株式会社島津製作所

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