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J-GLOBAL ID：200903050526563355

フッ素化プロパンの製造方法

Inventor： 日比野 泰雄 ,  玉井 良一 ,  金田 省三
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999027999
Publication number (International publication number)：2000007591
Application date： Feb. 05, 1999
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 工業的に有利なフッ素化プロパンの製造方法を提供する。【解決手段】下記の2工程を少なくとも含んでなるフッ素化プロパンの製造方法。(a)ハロゲン化プロパンまたはハロゲン化プロペンを気相でフッ素化触媒存在下フッ化水素でフッ素化してフッ素化プロペンを含む反応ガスを得る第一工程と、次いで、(b)第一工程で得られた反応ガスを高原子価金属ハロゲン化物を担持した活性炭からなる触媒の存在する反応領域に移動させ気相においてフッ化水素でフッ素化してフッ素化プロパンを得る第二工程。

Claim (excerpt)：

下記の2工程を少なくとも含んでなるフッ素化プロパンの製造方法。(a)一般式(1)C3HaFbXc (1)(式中、Xはそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、aは1〜6、bは0〜6、cは1〜7の整数を表し、a+b+c=8である。)で表されるハロゲン化プロパンまたは一般式(2)C3HdFeXf (2)(式中、Xはそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、dは0〜5、eは0〜5、fは1〜6の整数を表し、d+e+f=6である。)で表されるハロゲン化プロペンを気相でフッ素化触媒存在下フッ化水素でフッ素化して一般式(3)C3HgFhXi (3)(式中、Xはそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、gは0〜5、hは1〜6、iは0〜5の整数を表し、g+h+i=6である。)で表されるフッ素化プロペンを含む反応ガスを得る第一工程と、次いで、(b)第一工程で得られた反応ガスを高原子価金属ハロゲン化物を担持した活性炭からなる触媒の存在する反応領域に移動させ気相においてフッ化水素でフッ素化して一般式(4)C3HjFkXl (4)(式中、Xはそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、jは1〜6、kは2〜7、lは0〜5の整数を表し、j+k+l=8である。)で表されるフッ素化プロパンを得る第二工程。

IPC (6)：

C07C 17/087 ,  B01J 23/18 ,  C07C 17/20 ,  C07C 17/21 ,  C07C 19/08 ,  C07B 61/00 300

FI (6)：

C07C 17/087 ,  B01J 23/18 Z ,  C07C 17/20 ,  C07C 17/21 ,  C07C 19/08 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 245faの調製
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-339093   Applicant：エルフ・アトケム・ノース・アメリカ・インコーポレイテッド
• ハロゲン化プロパンの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-270106   Applicant：セントラル硝子株式会社