Pat
J-GLOBAL ID:200903050529219868
ウエハ-及びその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
川瀬 茂樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995162927
Publication number (International publication number):1996053765
Application date: Jun. 05, 1995
Publication date: Feb. 27, 1996
Summary:
【要約】【目的】 表面弾性波素子、半導体デバイス、耐磨デイスクなどに利用するための、基体の上にダイヤモンドを被覆した平坦なダイヤモンドウエハ-を作製すること。【構成】 基体の上に、気相合成法により(111)配向したダイヤモンド膜を形成する。形成後の反りが2μm〜150μmになるようする。これを研磨して、Rmax500Å以下、Ra200Å以下の平滑な面とする。
Claim (excerpt):
基板と、気相合成法により基板上にコ-テイングされた(111)配向したダイヤモンド膜とよりなり、ダイヤモンド膜は気相合成法により形成された後、研磨によりRmax500Å、Ra200Å以下の面粗度に仕上げてあることを特徴とするウエハ-。
IPC (6):
C23C 16/26
, C30B 25/02
, C30B 29/04
, H01L 21/205
, H01L 21/304 321
, H01L 21/314
Return to Previous Page