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J-GLOBAL ID：200903050574903141

バイアホール検査装置

Inventor： 岡田 英夫 ,  安藤 護俊
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 有我 軍一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077035
Publication number (International publication number)：1999271233
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、絶縁層にバイアホールを開孔した状態で、バイアホールの形状、開孔位置、エッチング残渣を検出し、良否の判定を行うことができるバイアホール検査装置を提供することを課題とする。【解決手段】 バイアホール検査装置100は、基板10に対して所定の入射角度で光を照射する光源11a、11b、基板10からの反射光を集束、観測する集束レンズ12及びCCDカメラ13と、観測された画像信号を二値化する二値化回路21及び記憶回路22と、二値化された画像情報とビットマップデータとの排他的論理和をとり、バイアホールに対応する画像成分のみを抽出する排他的論理回路31と、抽出された画像成分毎にラベリングするラベリング回路32と、画像成分毎に面積を算出し、開孔面積の良否を判定する孔面積判定回路41と、画像成分から開孔位置の良否を判定する孔ずれ検出回路51と、を有して構成されている。

Claim (excerpt)：

所定の形状に形成された金属層上に絶縁層が積層され、前記金属層に連通するように前記絶縁層に開孔されたバイアホールの良否判定を行うバイアホール検査装置において、前記絶縁層に対して、所定の入射角度で照射光を照射し、前記絶縁層からの反射光の明るさを観測して、画像信号として検出する観察手段と、前記観察手段により観測された前記反射光の明るさに基づいて、前記画像信号を二値化して画像情報を生成する二値化手段と、を具備し、前記画像情報に基づいて、前記バイアホールの良否判定を行うことを特徴とするバイアホール検査装置。

IPC (3)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/24 ,  H01L 21/66

FI (5)：

G01N 21/88 F ,  G01B 11/24 C ,  G01B 11/24 K ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z