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J-GLOBAL ID：200903050606102499

全反射蛍光X線分析装置

Inventor： 田村 浩一
Applicant, Patent owner： セイコー電子工業株式会社
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993062261
Publication number (International publication number)：1994273359
Application date： Mar. 22, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ターゲットの異なるX線源の変更に手間や時間がかからず、かつ装置が大型にならず安価な交換機能を有する装置を得る。【構成】 複数個のX線11〜13を直線駆動機構1に並べ、所望のX線源の選択は、制御装置7によって、X線源の直線移動によって行う構成とした。【効果】 簡単な構成のX線源切り換え機構をもつため、X線源の交換の手間や時間が大幅に削減できて操作性が向上し、装置が大型にならないという効果がある。

Claim (excerpt)：

微小の角度をもって入射するX線を全反射する表面を有した部材と、前記部材の表面近傍に位置する試料から発生する蛍光X線を検出する検出器と、X線源から放射されたX線を分光して前記部材の表面に微小の角度をもって入射する分光手段と、これら部材の相対的位置を制御する制御装置とからなる全反射蛍光X線分析装置において、前記X線源は複数個のX線源からなり、前記複数のX線源の中から使用するX線源を切り換える切り換え装置と、前記切り換え装置を制御する制御装置とを有することを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。