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J-GLOBAL ID：200903050606477026

レーザー照射装置

Inventor： 安永 浩二 ,  深谷 孝 ,  齋藤 卓志 ,  絹川 正彦
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 伊藤 進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992217046
Publication number (International publication number)：1994063164
Application date： Aug. 14, 1992
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】術者の手間を取らせないで、レーザー光を病変部のみに過不足なく確実に照射可能とし、レーザー治療の安全性を高くすること。【構成】励起レーザー装置15から励起用レーザを生体表面に照射し、生体で発する蛍光を用いて、生体表面を高感度カメラ28により撮像し、得られた蛍光イメージに従って、照射設定回路35により病変の位置、形状を設定情報を生成する。処置レーザー装置23が発したレーザーは、レーザー光路中に配置されたLCD22の透過領域を透過し、生体に照射される。このとき、LCD22の透過領域は、設定情報に従って病変部の位置、及び形状に相似して設定されている。従って、透過領域以外の領域に入射するレーザー光は遮光される一方、透過領域に入射するレーザー光のみが生体へ照射され、処置用レーザー光は、病変部位にのみ正確に照射される。

Claim (excerpt)：

生体へ処置用のレーザを照射するレーザー照射手段を有しているレーザー照射装置であって、診断用照明光を前記生体へ照射する手段と、前記診断用照明光を用いて生体の表面を撮像する撮像手段と、前記撮像手段の撮像により得られた撮像信号もしくは指示手段からの指示の少なくとも一方によって、前記生体の病変部の位置、及び形状に応じた設定情報を生成する病変部設定手段と、前記レーザー照射手段と前記生体との間にあるレーザー光路中に配置されると共に、前記病変部設定手段からの設定情報に応じて、前記レーザー光の透過領域を可変する遮光手段と、を備えていることを特徴とするレーザー照射装置。

IPC (2)：

A61N 5/06 ,  A61B 17/36 350

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-177834
  
• 特開昭59-095063
  
• 特開平3-114457