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J-GLOBAL ID：200903050606943574

活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた硬化皮膜の形成方法およびその硬化物、ならびに反射防止体

Inventor： 島田 健志郎 ,  緒方 敬三
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002306632
Publication number (International publication number)：2004143201
Application date： Oct. 22, 2002
Publication date： May. 20, 2004
Summary：

【課題】耐擦傷性を有すると共に、プライマー層などの密着付与層を設けることなくプラスチック基材および反射防止膜の両方に優れた密着性を有する硬化皮膜、および耐擦傷性と反射防止性を併せ持った反射防止体の提供。【解決手段】テトラヒドロフラン環含有(メタ)アクリレート(A)5〜50重量%と、シラノール基と反応可能な官能基およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物をシリカ粒子表面に反応せしめてなる活性エネルギー線硬化性シリカ(B)50〜95重量%とを含む活性エネルギー線硬化性組成物、プラスチック基材上に前記組成物を塗布した後、電子線を照射する硬化皮膜の形成方法、プラスチック基材上に前記組成物を塗布した後、電子線を照射せしめてなる硬化物、および該硬化物上に反射防止膜を設けてなる反射防止体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)で示される、テトラヒドロフラン環含有(メタ)アクリレート(A)5〜50重量%と、シラノール基と反応可能な官能基およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物をシリカ粒子表面に反応せしめてなる活性エネルギー線硬化性シリカ(B)50〜95重量%とを含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。 式(1)

IPC (11)：

C08F220/28 ,  B32B7/02 ,  B32B27/30 ,  C08F292/00 ,  C08J7/04 ,  C09D4/02 ,  C09D5/00 ,  C09D157/00 ,  C09D201/00 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

FI (11)：

C08F220/28 ,  B32B7/02 103 ,  B32B27/30 A ,  C08F292/00 ,  C08J7/04 L ,  C09D4/02 ,  C09D5/00 Z ,  C09D157/00 ,  C09D201/00 ,  G02B1/10 Z ,  G02B1/10 A

F-Term (69)：

2K009AA04 ,  2K009AA15 ,  2K009BB13 ,  2K009BB14 ,  2K009BB15 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD06 ,  4F006AA22 ,  4F006AB43 ,  4F006AB54 ,  4F006AB67 ,  4F006AB76 ,  4F006BA02 ,  4F006CA05 ,  4F006EA03 ,  4F100AA20A ,  4F100AA20H ,  4F100AA21 ,  4F100AH06A ,  4F100AK25A ,  4F100AK25B ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100DE01A ,  4F100EH66 ,  4F100EJ53 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14A ,  4F100JK09 ,  4F100JL11 ,  4F100JN06 ,  4J026AC00 ,  4J026BA27 ,  4J026BA50 ,  4J026BB01 ,  4J026CA02 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4J026GA07 ,  4J038CG141 ,  4J038CH041 ,  4J038CH071 ,  4J038CH111 ,  4J038FA11 ,  4J038FA17 ,  4J038FA23 ,  4J038HA446 ,  4J038KA08 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA19 ,  4J038PA17 ,  4J038PC08 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA77Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA61 ,  4J100JA32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表昭57-500984
  
• 特表昭57-500984
  
• 反射防止膜形成用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-084628   Applicant：セントラル硝子株式会社