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J-GLOBAL ID：200903050619953595

排気ガス浄化装置の再生システム

Inventor： 大野 一茂 ,  小島 正明 ,  田岡 紀之
Applicant, Patent owner： イビデン株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997212893
Publication number (International publication number)：1999062558
Application date： Aug. 07, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 排気ガス中のパティキュレートを捕捉した排気ガス浄化用ハニカムフィルタを再生するため、前記パティキュレートを焼却するに際し、前記フィルタ内で生じる温度分布のバラツキを防止する。【解決手段】 内燃機関の排気通路11に設置し、多孔質炭化珪素焼結体よりなる排気ガス浄化用ハニカムフィルタ12を備えた排気ガス浄化装置10と、フィルタ12を再生するために該フィルタ12のガス流入側の前方に配置したヒータ13と、該ヒータ13の前方で浄化装置10に取り付けた助燃空気の流入口16と、ヒータ13に供給する電力と助燃空気の供給を制御するコントロールユニット20とからなる排気ガス浄化装置の再生システムを提供する。

Claim (excerpt)：

内燃機関の排気通路に設置し、多孔質炭化珪素焼結体よりなる排気ガス浄化用ハニカムフィルタを備えた排気ガス浄化装置と、前記フィルタを再生するために該フィルタのガス流入側の前方に配置したヒータと、該ヒータの前方で前記浄化装置に設けた助燃空気の流入口と、前記ヒータに供給する電力と助燃空気の供給を制御するコントロールユニットとからなることを特徴とする、排気ガス浄化装置の再生システム。

IPC (4)：

F01N 3/02 341 ,  F01N 3/02 ,  B01D 39/20 ,  B01D 46/42

FI (5)：

F01N 3/02 341 R ,  F01N 3/02 341 L ,  F01N 3/02 341 T ,  B01D 39/20 D ,  B01D 46/42 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 内燃機関の排気浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-238629   Applicant：株式会社豊田自動織機製作所
• 排気ガス浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-183912   Applicant：イビデン株式会社
• 排気ガス浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-249372   Applicant：株式会社豊田自動織機製作所, 日本ドナルドソン株式会社