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J-GLOBAL ID：200903050645884216

レジスト材料及び使用法

Inventor： ハートラー,ウオルター・レイモンド ,  ソガ,ドツトセビ・ヤオ ,  テイラー,ゲイリー・ニユートン
Applicant, Patent owner： イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー ,  アメリカン・テレフオン・アンド・テレグラフ・カンパニー
Agent (1)： 小田島 平吉 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1991507745
Publication number (International publication number)：1997507304
Application date： Mar. 28, 1991
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：

【要約】デバイス及びマスク製造に用いるレジストのパターニングにおいて、特殊な組成物を用いて優れた分解能及び感度が得られる。特にこの組成物は、酸不安定α-アルコキシアルキルカルボン酸エステル部分の繰り返し側鎖を持つポリマーを、UV-可視、遠紫外、電子ビーム及びX-線などの化学線により活性化される酸発生剤と共に含む。

Claim (excerpt)：

1)ポリマー主鎖及び該主鎖に直接又は間接的に結合した側鎖を持ち、該側鎖が次式又は[式中: nは、0-4であり; R1は、水素、低級アルキルであり; R2は、低級アルキルであり; R3及びR4は、独立して水素又は低級アルキルであり、低級アルキルの定義がR1とR2又はR1とR3又はR4のどちらか、あるいはR2とR3又はR4のどちらかの結合による5-,6-又は7-員環の形成を含む]で表される組成物から成る群より選んだポリマー、及び(2)放射線照射により酸を形成する材料から成る材料。

IPC (7)：

G03F 7/039 ,  C08L 33/06 LHV ,  C08L 33/14 LHY ,  C08L 53/00 LLW ,  C08L101/08 LTB ,  C08F220/18 MMC ,  C08F220/28

FI (7)：

G03F 7/039 ,  C08L 33/06 LHV ,  C08L 33/14 LHY ,  C08L 53/00 LLW ,  C08L101/08 LTB ,  C08F220/18 MMC ,  C08F220/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-172301
  
• 特開平3-289655
  
• 特開平3-288153