Pat

J-GLOBAL ID：200903050673816021

蛍光X線分析装置および方法

Inventor： 早川 慎二郎 ,  後藤 俊治 ,  庄司 孝 ,  山田 栄司
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社 ,  理化学研究所
Agent (1)： 杉本 修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997208866
Publication number (International publication number)：1999051883
Application date： Aug. 04, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 簡単な構成で、高精度、高感度の測定ができる蛍光X線分析装置および方法を提供する。【解決手段】 1次X線3が照射される試料1が固定される試料台2と、格子面間隔の相異なる複数の分光素子6と、前記分光素子6を試料1に対し所定の位置に選択的に位置させて、試料1から発生した蛍光X線5を分光させる選択手段9と、前記所定の位置に対し固定され、前記分光された蛍光X線7の強度分布を測定する位置分解能検出手段8とを備える。

Claim (excerpt)：

1次X線が照射される試料が固定される試料台と、格子面間隔の相異なる複数の分光素子と、前記分光素子を試料に対し所定の位置に選択的に位置させて、試料から発生した蛍光X線を分光させる選択手段と、前記所定の位置に対し固定され、前記分光された蛍光X線の強度分布を測定する位置分解能検出手段とを備えた蛍光X線分析装置。