Pat
J-GLOBAL ID:200903050677678120

ガス状媒質での焼入れによる物品の熱処理方法及び設備

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 八木田 茂 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991065763
Publication number (International publication number):1994207214
Application date: Mar. 29, 1991
Publication date: Jul. 26, 1994
Summary:
【要約】【目的】 アルゴン又は窒素での従来の焼入れ処理と経済的に競争できるヘリウムでの焼入れ熱処理方法及びそのための設備。【構成】 熱交換器によって焼入れガスを冷却しながら、熱処理ずみ物品と接触して循環(8)するガス状媒質での焼入れにより物品を熱処理し、焼入れガスとして緩衝槽(2)内に待機圧力で貯蔵されたヘリウムを用いる。この方法では、焼入れ作業の終わりにヘリウムを処理室外に抜き出し(27,28)、1次真空を得るまで真空ポンプ(5)による最終段階で、前記抽出ヘリウムを機械的フィルタ(15)と組合された圧縮機(14)によって精製圧力に保持し、そのヘリウムを、場合によっては再圧縮後、緩衝槽(2)に移すために不純物除去精製装置(20,35)を通過させる。
Claim (excerpt):
熱交換器によって焼入れガスを冷却しながら、熱処理された物品と接触して循環(8)するガス状媒質での焼入れにより物品を熱処理し、焼入れガスとして緩衝槽(2)内に待機圧力で貯蔵されたヘリウムを用いる方法において、焼入れ作業の最後に、装入ヘリウムを処理室外に抜き出し(27,28)、1次真空を得るまで真空ポンプ(5)による最終段階で、機械的フィルタ(15)と組合された圧縮機(14)によって前記抜き出されたヘリウムを精製圧力に保持し、前記精製圧力にあるヘリウムを、場合によっては再圧縮後、緩衝槽(2)に移すために不純物除去精製装置(20,35)(31,35)内を通過させることを特徴とする物品の熱処理方法。
IPC (4):
C21D 1/18 ,  C21D 1/613 ,  C21D 1/773 ,  F27D 17/00 104

Return to Previous Page