Pat
J-GLOBAL ID:200903050700063448
シリカ微粒子凝集体分散液及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001344492
Publication number (International publication number):2003146643
Application date: Nov. 09, 2001
Publication date: May. 21, 2003
Summary:
【要約】【課題】インクジェット記録層を設ける際の乾燥時に肉眼でも認められる数mmのひび割れが生じることがなく、かつ高光沢でインク吸収性の良い記録層を形成することができるコロイド状のシリカ微粒子凝集体分散液を低コストで製造する方法を提供する。【解決手段】 疎水性シランカップリング剤で表面処理されたシリカシード粒子を含む分散液または懸濁液に、アルカリの存在下に活性ケイ酸水溶液及びアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種を添加して該シリカシード粒子を構成する各シリカ一次粒子を成長させることにより得られるシリカ微粒子凝集体分散液の製造方法。
Claim (excerpt):
疎水性シランカップリング剤で表面処理されたシリカシード粒子を含む分散液または懸濁液に、アルカリの存在下に活性ケイ酸水溶液及びアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種を添加して該シリカシード粒子を構成する各シリカ一次粒子を成長させることにより得られるシリカ微粒子凝集体分散液の製造方法。
IPC (4):
C01B 33/14
, B41J 2/01
, B41M 5/00
, D21H 19/64
FI (5):
C01B 33/14
, B41M 5/00 A
, B41M 5/00 B
, D21H 19/64
, B41J 3/04 101 Y
F-Term (40):
2C056FC06
, 2H086BA02
, 2H086BA33
, 2H086BA41
, 2H086BA46
, 2H086BA48
, 4G072AA25
, 4G072AA28
, 4G072BB01
, 4G072BB05
, 4G072CC20
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH14
, 4G072HH30
, 4G072MM01
, 4G072QQ07
, 4G072RR07
, 4G072RR12
, 4G072TT05
, 4G072TT08
, 4G072TT09
, 4G072UU30
, 4L055AG18
, 4L055AG38
, 4L055AG64
, 4L055AG94
, 4L055AG98
, 4L055AH02
, 4L055AH37
, 4L055AJ04
, 4L055BE08
, 4L055EA16
, 4L055EA17
, 4L055EA18
, 4L055EA26
, 4L055FA12
, 4L055FA13
, 4L055FA30
, 4L055GA09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
特開昭62-275005
-
疎水性沈降シリカの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-110967
Applicant:信越化学工業株式会社
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