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J-GLOBAL ID：200903050880958936

多孔質セラミックス膜、これを用いたガス分離膜、及びその製造方法

Inventor： 河合 千尋 ,  山川 晃
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 中村 勝成 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993050191
Publication number (International publication number)：1994239674
Application date： Feb. 16, 1993
Publication date： Aug. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 圧力損失が小さく且つ目詰まりが少ないガス分離膜として有用な多孔質セラミックス膜、及びかかる多孔質セラミックス膜を短時間で簡単且つ容易に製造する方法を提供する。【構成】 Si等のアルコキシド、B等のアルコキシド、酸素ガスを原料ガスとするCVD法により、多孔質セラミックス焼結体からなる基材上に400〜1200°Cの温度でSiO2-B2O3等の複合酸化物膜を形成し、この複合酸化物膜を耐酸性又は耐アルカリ性の差を利用してエッチング処理することによりB2O3等の特定酸化物のみを除去する方法により製造され、B2O3等の特定酸化物の除去された跡に形成された細孔が基材との接合面から他方の膜表面までほぼ直線状に連通したナノメーターサイズの孔径を有し、本質的にSi、Zr、Ti、Hf、Pb又はAlの酸化物からなる多孔質セラミックス膜。

Claim (excerpt)：

連通気孔を有する多孔質セラミックス焼結体からなる基材上に接合され、本質的にSi、Zr、Ti、Hf、Pb及びAlからなる群から選ばれた少なくとも1種の元素の酸化物からなり、前記基材との接合面から他方の膜表面までほぼ直線状に連通したナノメーターサイズの孔径の細孔を有することを特徴とする多孔質セラミックス膜。

IPC (5)：

C04B 38/00 303 ,  B01D 71/02 500 ,  C04B 41/87 ,  C04B 41/91 ,  C23C 16/40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ポンプ吸込槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-117080   Applicant：株式会社クボタ