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J-GLOBAL ID：200903050889375437

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 山中 司 ,  藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002291445
Publication number (International publication number)：2004126302
Application date： Oct. 03, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：

【課題】感度及びプロファイルが良好であるとともに、レジスト液保存の経時において感度変動が少ないポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(B)特定のフェナシルスルホニウム化合物、及び、(C)特定のメルドラム酸化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、 (B)一般式(I)で表される化合物、及び、 (C)一般式(II)で表される化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (18)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17