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J-GLOBAL ID：200903050893606109

高分子ゲル複合膜の製造方法、ガス分離膜及びガス分離促進輸送膜

Inventor： 中林 誠 ,  岡部 和弘 ,  三島 隆之 ,  真野 弘 ,  原谷 賢治
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  財団法人地球環境産業技術研究機構
Agent (2)： 池浦 敏明 (外1名) ,  池浦 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994332068
Publication number (International publication number)：1995275672
Application date： Dec. 12, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ガス透過性にすぐれた分離膜又は分離膜素材として有用な高分子ゲル複合膜の製造方法及びその高分子ゲル膜にガスキャリヤーを含有させたガス分離促進輸送膜として作用する高分子ゲル複合膜の製造方法を提供するとともに、ガス透過性にすぐれたガス分離膜及びガス透過性にすぐれ、しかもその使用に際し、膜面からガスキャリヤー溶液の漏出のないガス分離促進輸送膜を提供する。【構成】 疎水性多孔質膜面に親水性高分子、そのオリゴマー又はそのモノマーを含有する液体を接触させた状態で放射線を照射し、多孔質膜面に親水性高分子ゲル膜を形成させることを特徴とする高分子ゲル複合膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

疎水性多孔質膜面に親水性高分子、そのオリゴマー又はそのモノマーを含有する液体を接触させた状態で放射線を照射し、多孔質膜面に親水性高分子ゲル膜を形成させることを特徴とする高分子ゲル複合膜の製造方法。

IPC (4)：

B01D 67/00 500 ,  B01D 69/00 500 ,  B01D 71/52 ,  B32B 5/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特公平3-063413