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J-GLOBAL ID：200903050938805930

シリカゾル及びその製造方法

Inventor： 前島 邦明 ,  芦沢 正矩
Applicant, Patent owner： 日本化学工業株式会社
Agent (1)： 渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992119616
Publication number (International publication number)：1993294612
Application date： Apr. 14, 1992
Publication date： Nov. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 Naの少ないシリカゾルおよびその製造方法を提供する。【構成】 シリカゾル中のナトリウム成分がSiO2 に対しNa2 Oとして0.05wt%以下の実質的に含有しないシリカゾルであって、該シリカゾルを粉末としたとき、次式(1)【数1】(S1 はシリカゾルを150°C、3時間乾燥した粉末及びS2 は乾燥粉末を1100°C、3時間焼成した粉末のそれぞれのBET比表面積(m2 /g)を表わす)で示される比表面積変化率(R)が50%以下であるシリカゾル。珪酸ソーダ水溶液をイオン交換により脱Na+ して活性な珪酸溶液を得る第1工程、該珪酸溶液に第四級アンモニウム水酸化物を添加した後、加熱熟成してコロイド状珪酸を形成する第2工程、次いで該コロイド液を再びイオン交換により脱カチオン処理を施す第3工程よりなるシリカゾルの製造方法。

Claim (excerpt)：

シリカゾル中のナトリウム成分がSiO2 に対しNa2 Oとして0.05wt%以下の実質的に含有しないシリカゾルであって、該シリカゾルを粉末としたとき、次式(1)【数1】(式中、S1 はシリカゾルを150°C、3時間乾燥した粉末及びS2 は乾燥粉末を1100°C、3時間焼成した粉末のそれぞれのBET比表面積(m2 /g)を表わす)で示される比表面積変化率(R)が50%以下であることを特徴とするシリカゾル。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

• 特開昭63-123807
  
• 特開昭61-158810
  
• 特開昭49-058098
  
• 特開平3-137012
  
• 特公昭49-007800
  
• 特公昭55-010535
  
• 特開平4-074707
  
• 特開平4-231319
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-123807
  
• 特開昭61-158810
  
• 特開昭63-123807
  
• 特開昭61-158810